本系統應用於奈米光罩貼合設備，搭配光罩貼合於玻璃、晶圓 (Wafer)等需高精度定位之元件，影像對位系統提供光罩初定位，並於完成影像定位與自動對焦，透過影像兩點間偏移演算計算光罩定位偏移角度，並將補償值設置於玻璃二次定位，以利光罩與玻璃進行精密貼合作業。

◆ WAFER 圖像定位

透過玻璃或晶圓上的對位 Mark 進行影像比對確認旋轉差異量。

 

◆ 雙 CCD 軸向控制

透過兩組獨立三軸影像步進馬達進行影像位置微調，架設於腔體外便利確認觀景窗內狀況與對位品質。

 

◆ 高亮度點光源

透過高亮度同軸點光源進行影像亮度調整，確保在焦距 220 mm 外能夠準確打光，確認被檢物影像清晰度品質。

 

◆ 快速上手安裝

本系統僅需鏡頭、工業電腦與光源控制，可快速架設於設備上進行點位設置，無須複雜之接線工序。

 

 

光罩玻璃對位補償

設計光罩與玻璃精密貼合作業所需之自動對位系統設備流程，

經由影像計算兩點間旋轉差值，提供設備入料端對玻璃進行位置修正，

增加光罩玻璃貼合之良率。